鍍膜冷水機的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結晶，由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以須在高真空下才能使結晶體細密光亮；如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差，早期的冷水機是依靠蒸發(fā)體自然散射，結合差工效低光澤差，現(xiàn)在森瑞克加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。
    鍍膜冷水機具有立的制冷系統(tǒng)，不會受氣溫及環(huán)境的影響，水溫在5℃ ～30℃ 范圍內調節(jié)控制，因而可以達到高精度、高xiao率控制溫度的目的，設有立的水循環(huán)系統(tǒng)，非常實用。